Nghiên cứu chế tạo màng mỏng epitaxy Germani trên Silic có ứng xuất căng và pha tạp điện tử với mật độ cao nhằm ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp

Cập nhật vào: Thứ sáu - 20/08/2021 12:40 Cỡ chữ Nhỏ  Lớn

Lượt xem: 98 In bài viết